INVESTIGATION OF THERMALLY GROWN SILICON-OXIDE FILMS BY SYNCHROTRON RADIATION

Autor(en): BRAUN, W
KUHLENBECK, H
Stichwörter: Chemistry; Chemistry, Analytical
Erscheinungsdatum: 1987
Herausgeber: SPRINGER VERLAG
Journal: FRESENIUS ZEITSCHRIFT FUR ANALYTISCHE CHEMIE
Volumen: 329
Ausgabe: 2-3
Startseite: 261
Seitenende: 265
ISSN: 00161152
DOI: 10.1007/BF00469153

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