Optically assisted chemical surface microstructuring of LiNbO/sub 3/

Autor(en): Mailis, S.
Ross, G.W.
Reekie, L.
Abernethy, J.A.
Barry, I.E.
Eason, R.W.
Nee, I.
Müller, Markus
Buse, K.
Stichwörter: Etching (microfabrication); Materials science; Excimer laser; Grating; Lithium niobate; Isotropic etching; Laser; Laser ablation; Reactive-ion etching; Optics; Optoelectronics; Nanotechnology; Layer (electronics); Physics
Erscheinungsdatum: 2002
DOI: https://doi.org/10.1109/cleoe.2000.909971

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